ASML正準備新光刻機助力衝擊2nm工藝
本文已影響1.45W人
本文已影響1.45W人
ASML正準備新光刻機助力衝擊2nm工藝,阿斯麥(ASML)最新研發的高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)光刻機,是2nm工藝的關鍵工具,成為三星、台積電爭奪的焦點。ASML正準備新光刻機助力衝擊2nm工藝。
ASML正準備新光刻機助力衝擊2nm工藝1
對於芯片廠商而言,光刻機顯得至關重要,而ASML也在積極佈局新的技術。據外媒報道稱,截至 2022 年第一季度,ASML已出貨136個EUV系統。
按照官方的説法,新型號的EUV光刻機系統 NXE:3600D將能達到93%的可用性,這將讓其進一步接近DUV光刻機(95%的可用性)。
數據顯示,NXE:3600D系統每小時可生產160個晶圓 (wph),速度為30mJ/cm,這比 NXE:3400C高18%。二正在開發的 NXE:3800E系統最初將以30mJ/cm的速度提供大過195wph的產能,並在吞吐量升級後達到220wph。
據介紹,NXE:3600E 將在像差、重疊和吞吐量方面進行漸進式光學改進,而在0.33 NA的EUV光刻機領域,ASML路線圖包括到2025年左右推出吞吐量約為220wph的NXE:4000F。
對於0.55 NA的光刻機,需要更新的不但是其光刻機系統。同時還需要在光掩模、光刻膠疊層和圖案轉移工藝等方面齊頭並進,才能讓新設備應用成為可能。
根據ASML 在一季度財務會議上披露的數據,公司的目標是在2022年出貨55台EUV系統,併到2025年實現(最多)90台工具的計劃。ASML同時還承認, 90台可能超過2025年的實際需求,不過他們將其描述為為滿足2030年1萬億美元半導體行業需求所做出的巨大努力。
按照之前的説法,ASML正在研發新款光刻機,價值高達4億美元(約合26億元人民幣),雙層巴士大、重超200噸。原型機預計2023年上半年完工,2025年首次投入使用,2026年到2030年主力出貨。
這款機器應該指的就是High-NA EXE:5200(0.55NA),Intel是全球第一個下單的公司。所謂High-NA也就是高數值孔徑,2nm之後的節點都得依賴它實現。
ASML正準備新光刻機助力衝擊2nm工藝2
當前,全球具備5nm及以下製程芯片製造實力的晶圓製造企業,正在展開一場投資超600億美元、以納米乃至原子厚度為目標的先進製程競賽。
近期,2nm等先進芯片發展備受行業關注。
6月17日台積電舉行的技術論壇上,晶圓代工龍頭台積電(TSMC)首次披露,到2024年,台積電將擁有阿斯麥(ASML)最先進的高數值孔徑極紫外(high-NA EUV)光刻機,用於生產納米片晶體管(GAAFET)架構的2nm(N2)芯片,預計在2025年量產。
與此同時,6月初被美國總統拜登亞洲行接見後,緊接着,韓國三星電子副會長李在鎔又馬不停蹄奔赴歐洲,有報道指三星電子在阿斯麥獲得了十多台EUV光刻機,並於本週起大規模生產3nm芯片,而2nm將於2025年量產。
儘管量產2nm芯片依然還需時日,但此時此刻,台積電、三星電子兩家芯片大廠不約而同的尋求下一代EUV光刻機,意味着現在“2nm技術戰”已經打響。
“到了未來的技術節點,間距微縮將減緩,硅晶體管似乎只能安全地微縮至2nm,而在那之後,我們可能就會開始使用石墨烯。”芯片製造的核心軟件EDA巨頭新思科技(Synopsys)研究專家Victor Moroz的這句話道出了2nm技術的重要性:2nm是硅芯片的最後一戰。
阿斯麥(ASML)最新研發的高數值孔徑極紫外光(high-NA EUV)光刻機,是2nm工藝的關鍵工具,成為三星、台積電爭奪的焦點。
光刻機被譽為“皇冠上的明珠”,其利用特殊的光源和玻璃,將晶體管和設計好的電路圖投射到硅芯片,來繪製芯片電路,其大小相當於一輛公交車,一家先進芯片工廠通常需要9~18台這樣的設備。
芯片製造離不開光刻機,且製程越先進,其重要性越凸出,佔芯片製造總成本比例也越高,總體來看,光刻機的成本佔總設備成本的30%。
沒有EUV光刻機,就無法制造先進製程芯片。而目前EUV光刻孔徑為0.33NA,最多製造3nm芯片。
隨着芯片越來越精密,更高數值的孔徑意味着更小的光線入射角度,也意味着能夠用來製造尺寸更小、速度更快的芯片。如今,三星、台積電都希望通過獲得下一代EUV光刻機,從而在未來2nm技術競爭上佔據優勢。
最先進的高數值孔徑EUV光刻機,目前只有ASML能夠生產。然而,光刻機設備開發難度很大,一年只能生產十幾台。隨着全球芯片短缺,ASML不得不延遲交付,產能有限,廠商們要買到,並不容易。
此次李在鎔到訪歐洲,主要目的之一就是到荷蘭採購ASML下一代EUV光刻機。更早之前,英特爾CEO基辛格為了能追趕台積電、三星,不止是投資入股阿斯麥公司,還提早花高價訂購EUV光刻機制造產能。
據ASML公佈的數據,新的EXE:5000系列high-NA EUV光刻機,鏡頭數值孔徑從0.33NA變為0.55NA,孔徑大小增加了67%,有望實現8nm的分辨率。預計這種設備非常複雜、非常大且價格昂貴——每台的成本將超過4億美元。
ASML正準備新光刻機助力衝擊2nm工藝3
據 semiwiki 日前的報道,截至 2022 年第一季度,ASML 已出貨 136 個 EUV 系統,約曝光 7000 萬個晶圓已曝光(如下圖)。
台積電在早前的技術大會上則表示,在全球已經安裝的 EUV 光刻機系統中,台積電擁有了其中的 55%。三星的實際控制人李在鎔日前則拜訪了荷蘭總統,以尋找更多的 EUV 供應。
這再次説明,生產先進芯片必不可少的 EUV 成為了全球關注的目標。在日前的一些報道中,我們也看到了 EUV 光刻機的一些路線圖更新。
0.33NA EUV 的新進展
報道中表示, 0.33 NA 的 EUV 系統是當今前沿光刻的主力生產系統。先進的邏輯和 DRAM 都在使用 0.33 NA 的.系統大批量生產。下圖説明了邏輯和 DRAM(條)的 EUV 層數和每年使用 EUV 曝光的晶圓(面積)。
據 ASML 公司的 Mike Lercel 介紹 ,以典型的 5nm 工藝為例,2021 年的邏輯值是 10 層以上 EUV 層,到 2023 年的 3nm 將會有 20 層的 EUV 層,而 DRAM 目前的 EUV 層使用量約為 5 層。
Mike Lercel 還談到了未來 DRAM 曝光的展望,他指出,不就之後 DRAM 上有大約會有 8 個關鍵層,最終其中一些層可能需要多重圖案化,使每個晶圓的 EUV 曝光達到 10 層。
從報道中可以看到,新型號的 EUV 光刻機系統 NXE:3600D 將能達到 93% 的可用性,這將讓其進一步接近 DUV 光刻機(95% 的可用性)。
數據顯示,NXE:3600D 系統每小時可生產 160 個晶圓 ( wph ) ,速度為 30mJ/cm?,這比 NXE:3400C 高 18%。二正在開發的 NXE:3800E 系統最初將以 30mJ/cm? 的速度提供大過 195wph 的產能,並在吞吐量升級後達到 220wph。
據介紹,NXE:3600E 將在像差、重疊和吞吐量方面進行漸進式光學改進。
從 semiwi 的報道中我們可以看到,在 0.33 NA 的 EUV 光刻機領域,ASML 路線圖包括到 2025 年左右推出吞吐量約為 220wph 的 NXE:4000F。按照 EUV 執行副總裁 Christophe Fouquet 在參加高盛虛擬峯會的時候的説法,公司之所以把新設備稱它為 F,因為 ASML 也希望通過該設備能顯著提高生產力,這主要歸功於公司希望在該系統的功率上能夠更進一步。
至於產能的增加幅度,Christophe Fouquet 表示,這可能會達到 10% 到 20%,但他們依然還沒有最終確定。不過 ASML 目前計劃在 2025 年左右交付第一個 NXE:4000F 系統。
semiwiki 在文章中表示,對於 0.33 NA 系統,ASML 正致力於通過增加吞吐量和降低總能量來減少每次曝光所需的功耗,而雙重圖案甚至也將成為 0.33NA 光刻機需要發力的一個方面。
如在之前的報道中指出,在發力 0.33 NA 光刻機的時候,ASML 也在加快 0.55 NA 光刻機的進度。而繼英特爾表示將在 2025 年使用上 High-NA 光刻機之後,台積電在日前也將 High-NA 光刻機的應用時間放在 2024 年。這無疑是大大提升了先進 EUV 光刻機的應用時間。
因為從相關資料可以看到, 0.33 NA 的常規 EUV 光刻機從原型機出貨(2010 年)到量產機出貨(2019 年)用了大約 10 年時間。如果相關報道屬實,那就意味着 0.55 NA 的 high NA EUV 光刻機從原型機出貨(2023 年)到量產機出貨(2026 年)只需要短短的三年。
鄭秀妍新歌One More Christmas Music Film哪裏能聽 歌詞介紹
air max97 fragment design Sample版什麼時候發售 air max97藤原浩Sample版諜照
Shawn Mendes萌德新歌Lost In Japan歌詞中文版 萌德新歌Lost In Japan哪裏能聽
palm angels是什麼牌子 palm angels中文名怎麼讀
madness聯名新百倫發售價格多少 madness newbalance990市場價格
高熱量飲食必備!FANCL HealthScience Calolimit纖體熱控片&成人熱控片讓你瘦
蘋果A16工藝被曝仍是5nm而非4nm
即刻電音jasmine真容長什麼樣子 jasmine楚晴個人資料介紹
復古風格與高級時裝的碰撞|LANVINMenswear2021S/S
小將曾凡博正準備衝擊nba
lanman口紅怎麼樣 lanman爛熳口紅好用嗎
衝擊力的意思 衝擊力的解釋
lanman爛熳口紅哪個國家的品牌 lanman爛熳口紅屬於什麼檔次
somill潔面儀是韓國的嗎 somill潔面儀和luna哪個好
Alessandra Ambrosio最新街拍 帥氣有型
學Taylor Momsen畫狂野眼線
elizabeth and james是哪個國家的牌子 elizabeth and james是什麼檔次
Lanvin for H&M系列紐約大秀
bareminerals什麼牌子 bareminerals礦物粉底好用嗎
SS21上海時裝週UMA WANG攜手三槍綻放女性內“新”的力量
nike vapormax 全新 laceless版本什麼時候發售多少錢
Hourglass Ambient六色高光修容盤怎麼樣 Hourglass Ambient六色高光修容盤怎麼用
台積電正式公佈2nm工藝
達康書記代言金立M6S Plus發佈 小米MIX2曝光 小米MIX2多少錢
Intel或將率先使用台積電2nm工藝
耐克Air Max 1 Wmns Sandy Suede發售價格 AM1 Sandy Suede發售時間
adidas originals hu nmd trail 全新配色什麼時候發售多少錢
高通欲打敗蘋果M2,新品將採用台積電 4nm 工藝
Armani阿瑪尼Cedre Olympus中性香水
孕前準備工作:備孕夫妻必知孕前準備知識
做好6個準備工作時刻進入泡妞狀態
mama香港ban頒獎典禮嘉賓名單 mama舉辦時間是什麼時候
AlexanderMcQueen秀上這種瘋狂珠寶皆來源於ShaunLeane之手
suamoment官網地址 suamoment實體店在哪裏
adidas originals nmd r1 stlt 全新配色球鞋多少錢什麼時候發售
Lancome蘭蔻Miracle Ultra Pink粉紅奇蹟女性香水
lanman爛熳口紅多少錢 lanman爛漫口紅官網價格
做美瞳線的準備工作是什麼 美瞳線的準備工作要準備什麼
樸春攜新作品迴歸 正在努力準備中
ohana mahaalo在哪買 ohana mahaalo香水真假鑑別
扭轉束髮&韓式魚骨辮 2款編髮教程專為頭髮多mm準備
Tim Hamilton中國哪裏有 Tim Hamilton是什麼牌子
Francesco Scognamiglio是什麼牌子 Francesco Scognamiglio 春夏時裝秀